[发明专利]一种制作大高宽比X射线衍射光栅的方法无效
| 申请号： | 201210030607.5 | 申请日： | 2012-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN102590915A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 谢常青;方磊;朱效立;李冬梅;刘明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制作大高宽比X射线衍射光栅的方法，包括：制作掩模A；制作X射线光刻的基底B；以及将掩模板A与基底B进行键合，形成大高宽比的X射线衍射光栅。相对于普通的光栅，本发明提供的制作大高宽比X射线衍射光栅的方法，能制造出大高宽比的X射线衍射光栅。本发明提供的制作大高宽比X射线衍射光栅的方法，制作工艺简单，成本低廉，能大批量制作。本发明提供的制作大高宽比X射线衍射光栅的方法，避免了二次电子束直写的复杂，避免了对准不精确问题，能更好的形成精确的大高宽比光栅线条。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作 大高宽 射线 衍射 光栅 方法 | ||
【主权项】：
一种制作大高宽比X射线衍射光栅的方法，其特征在于，包括：制作掩模A；制作X射线光刻的基底B；以及将掩模板A与基底B进行键合，形成大高宽比的X射线衍射光栅。
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