[发明专利]流路结构和电子装置有效
申请号: | 201210031295.X | 申请日: | 2012-02-13 |
公开(公告)号: | CN102645936A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 中下大辅 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G05D13/02 | 分类号: | G05D13/02;G03B21/16 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 林振波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种流路结构,包括:流路(1),用于将流体从入口(2)引向出口(3);和流速控制结构(5),设置在流路中入口和出口之间的部分中,以减小流入流路的流体在与流体流动方向交叉的方向上具有的流速差,其特征在于,在与流动方向交叉的方向,该流速控制结构(5)包括多个与流体流过的间隔(5b)交替设置的流速控制构件(5a),并且流速控制构件具有彼此不同的尺寸,所述尺寸随着在设置各流速控制构件的与流动方向交叉方向上的区域处流体流速的增大而增大。还提供了一种包括上述流路结构的电子装置。 | ||
搜索关键词: | 结构 电子 装置 | ||
【主权项】:
一种流路结构,包括:流路(1),用于将流体从入口(2)引向出口(3),和流速控制结构(5),设置在流路中入口和出口之间的部分中,以减小流入流路的流体在与流体流动方向交叉的方向上具有的流速差,其特征在于,在与流动方向交叉的方向,该流速控制结构(5)包括多个与流体流过的间隔(5b)交替设置的流速控制构件(5a),并且流速控制构件具有彼此不同的尺寸,所述尺寸随着在设置各流速控制构件的与流动方向交叉方向上的区域处流体流速的增大而增大。
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