[发明专利]记录介质有效
| 申请号： | 201210031509.3 | 申请日： | 2012-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN102632736A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 野口哲朗;加茂久男;仁藤康弘;田栗亮;小栗勲;苏秀儿;八田直也;汤本真也 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | B41M5/50 | 分类号： | B41M5/50 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种记录介质。记录介质包括支持体和墨接收层，所述墨接收层具有下层和上层，其中所述下层包含无机细颗粒、聚乙烯醇和硼酸，所述无机细颗粒包括选自氧化铝、水合氧化铝和气相法二氧化硅中的至少一种化合物，其中所述上层包含无机细颗粒、聚乙烯醇和硼酸，所述无机细颗粒包括选自氧化铝和水合氧化铝中的至少一种化合物，其中所述下层具有相对于聚乙烯醇为2.0质量％至7.0质量％的硼酸含量，和其中所述上层具有相对于聚乙烯醇为10.0质量％至30.0质量％的硼酸含量。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 | ||
【主权项】：
一种记录介质，其包括：支持体；和设置于所述支持体上的墨接收层，所述墨接收层具有下层和上层，其中所述下层包含无机细颗粒、聚乙烯醇和硼酸，所述无机细颗粒包括选自氧化铝、水合氧化铝和气相法二氧化硅中的至少一种化合物，其中所述上层包含无机细颗粒、聚乙烯醇和硼酸，所述无机细颗粒包括选自氧化铝和水合氧化铝中的至少一种化合物，其中所述下层具有相对于所述聚乙烯醇为2.0质量％至7.0质量％的硼酸含量，和其中所述上层具有相对于所述聚乙烯醇为10.0质量％至30.0质量％的硼酸含量。
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