[发明专利]清洁基板表面的方法和设备

摘要

本发明大体提供用于在半导体基板上形成干净且无伤害的表面的设备及方法。本发明的一个实施例提供一系统，该系统含有一清洁腔室，该清洁腔室适于在基板表面上形成外延层之前，将基板表面暴露于等离子体清洁处理。在一实施例中，采用一方法以减少在清洁腔室中处理的基板的污染，该方法藉由在基板上进行清洁处理之前，于清洁腔室的内表面上沉积集除物质。在一实施例中，于清洁腔室的基板上重复进行氧化及蚀刻步骤，以在基板上暴露出或产生一干净表面，而可以在干净表面上沉积外延层。在一实施例中，于清洁步骤中使用低能量等离子体。

主权项

一种处理半导体基板的方法，包括：将基板放置在处理腔室的处理区域内；将设置在所述处理腔室中的基板的表面暴露于含氧气体中以在所述表面上形成第一含氧层；自所述基板的至少一部分表面移除所述第一含氧层的至少一部分；以及将所述基板的所述表面暴露于含氧气体中以在所述表面上形成第二含氧层。