[发明专利]一种双位线亚阈值存储单元电路无效

专利信息
申请号: 201210035886.4 申请日: 2012-02-17
公开(公告)号: CN102543157A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 柏娜;谭守标;吴秀龙;李正平;孟坚;陈军宁;徐超;代月花;吴维奇 申请(专利权)人: 安徽大学
主分类号: G11C11/40 分类号: G11C11/40
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 奚幼坚
地址: 230601 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种双位线亚阈值存储单元电路,采用双端读写操作,电路包括第一反相器和第二反相器,两个反相器连接成交叉耦合,采用读写位线分离的双位线结构,交叉耦合的两个存储节点分别通过一个NMOS管连接到两根写位线上,同时交叉耦合的两个存储节点通过一个NMOS管与一个PMOS管连接到两根读位线上。本发明采用PMOS衬底调节技术,即将所有的PMOS的衬底端都连接到其栅端,能够在保证系统不增加额外管理功耗和不降低性能的前提下,实现动态操作能耗和静态操作中泄漏功耗的同时降低,提高了存储单元的静态噪声容限,使系统性能最优化。
搜索关键词: 一种 双位线亚 阈值 存储 单元 电路
【主权项】:
一种双位线亚阈值存储单元电路,其特征在于,包括四个PMOS管P1~P4及六个NMOS管N1~N6,构成双端读写的亚阈值存储单元电路,具有一对写位线和一对读位线,其中:四个PMOS管P1~P4的衬底分别与各自的栅端连接,六个NMOS管N1~N6的衬底均接地GND;NMOS管N1的漏端和栅端分别与PMOS管P1的漏端和栅端连接在一起,构成第一反相器;NMOS管N2的漏端和栅端分别与PMOS管P2的漏端和栅端连接在一起,构成第二反相器;第一反相器与第二反相器连接成交叉耦合:NMOS管N1栅端、PMOS管P1的栅端与NMOS管N2的漏端以及PMOS管P2的漏端连接在一起,NMOS管N2的栅端、PMOS管P2的栅端与NMOS管N1的漏端以及PMOS管P1的漏端连接在一起,PMOS管P1、P2的源端均与电源电压VDD连接;NMOS管N3的源端、NMOS管N5的栅端与PMOS管P1的漏端及NMOS管N1的漏端连接在一起,NMOS管N3的栅端连接写字线WWL,NMOS管N3的漏端连接写位线WBL,NMOS管N5的漏端连接PMOS管P3的漏端,PMOS管P3的栅端连接读字线RWL,PMOS管P3的源端连接读位线RBL,NMOS管N4的源端、NMOS管N6的栅端与PMOS管P2的漏端及NMOS管N2的漏端连接在一起,NMOS管N4的栅端连接写字线WWL,NMOS管N4的漏端连接另一根写位线WBLB,NMOS管N6的漏端连接PMOS管P4的漏端,PMOS管P4的栅端连接读字线RWL,PMOS管P3的源端连接另一根读位线RBLB,NMOS管N1、N2、N5、N6的源端均接地GND。
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