[发明专利]石墨盘、具有上述石墨盘的反应腔室和对衬底的加热方法无效
| 申请号： | 201210041203.6 | 申请日： | 2012-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN103074606A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 梁秉文 | 申请（专利权）人： | 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/46 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种化学气相沉积工艺的石墨盘、反应腔室和对衬底的加热方法，其中所述石墨盘具有凹槽，所述凹槽所在的位置具有与之对应的支撑架，所述支撑架用于将衬底悬置，使得衬底与石墨盘不接触。本发明通过将衬底悬置，使得石墨盘对衬底的加热为热辐射为主，从而改善了对衬底尤其是发生了翘曲变形的衬底的加热的均匀性，改善了化学气相沉积工艺的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨 具有 上述 反应 衬底 加热 方法 | ||
【主权项】：
一种化学气相沉积工艺的石墨盘，具有用于放置衬底的凹槽，其特征在于，所述凹槽所在的位置具有与之对应的支撑架，所述支撑架用于将衬底悬置，使得衬底与石墨盘不接触。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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