[发明专利]基材表面的铜膜、其制备方法及应用有效
申请号: | 201210041508.7 | 申请日: | 2012-02-21 |
公开(公告)号: | CN102605355A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 聂俊;朱晓群 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学 |
主分类号: | C23C18/08 | 分类号: | C23C18/08;H01B13/00;H05K1/09;C09D11/02 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 皋吉甫 |
地址: | 100029 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基材表面金属铜膜的制备方法,可以使非导体基材表面铜金属化,并且通过选择性曝光可以使膜图案化,省略了曝光、显影、刻蚀等步骤;所制备的铜膜纯度高、导电性好,并且膜厚可通过光照时间控制。该方法工艺简单、可操作性强、加工成本低、且环境友好,可替代传统的线路板印制技术。 | ||
搜索关键词: | 基材 表面 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
一种基材表面金属铜膜的制备方法,包括如下步骤:将铜盐和助剂加入溶剂中,使其完全溶解;在避光条件下,将光引发剂加入步骤(1)所得溶液中,混合均匀,然后将此反应溶液注入容器中,使透光基材与反应溶液相接触;用与光引发剂吸收波长相适应的面光源照射透光基材,促使反应进行从而生成金属铜粒子,所述金属铜粒子附着于基材表面;将表面附有金属铜粒子的基材在热压机上隔氧热压。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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