[发明专利]一次写入光学记录介质及其制造方法无效
| 申请号： | 201210043836.0 | 申请日： | 2008-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN102623027A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 和田豊 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G11B7/257 | 分类号： | G11B7/257;G11B7/243 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一次写入光学记录介质及其制造方法。该一次写入光学记录介质包括：无机记录层；保护层，包含氧化铟和氧化锡作为主要成分，保护层被设置在无机记录层的至少一个表面上；以及热积累层，其设置在无机记录层的至少一个表面上，其中，无机记录层与热积累层邻接，其中，热积累层具有比保护层的热传导率低的热传导率。 | ||
| 搜索关键词： | 一次 写入 光学 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种一次写入光学记录介质，包括：无机记录层；保护层，包含氧化铟和氧化锡作为主要成分，所述保护层被设置在所述无机记录层的至少一个表面上；以及热积累层，其设置在所述无机记录层的至少一个表面上，其中，所述无机记录层与所述热积累层邻接，其中，所述热积累层具有比所述保护层的热传导率低的热传导率。
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