[发明专利]一种在铝合金表面沉积ZrN薄膜工艺的研究无效

专利信息
申请号: 201210044315.7 申请日: 2012-02-27
公开(公告)号: CN102899611A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 王会强;孙维连;邢艳秋;李新领;孙铂;安广;李颖;程越 申请(专利权)人: 河北农业大学
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 071001 河北省保定*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明提供一种利用中频反应磁控溅射在铝合金表面沉积ZrN薄膜的方法,其特征在于:功率为5kW,本底真空6.0×10-3Pa,靶材为270×70×5mm的对称Zr靶,工作气体Ar气和反应气体N2气的纯度99.99%,溅射气压3.0×10-1Pa,偏压150V,占空比80%;基体采用铝合金镜面板,使用前超声波清洗,清洗温度控制在50℃,清洗10min用丙酮擦拭,酒精漂洗吹干;将铝合金挂到真空炉悬架上,靶基距120mm,抽真空到6.0×10-3Pa后,Ar气辉光清洗,调压至3.0×10-3Pa;主轰击,加入N2气,调压至3.0×10-1Pa,进行沉积。本发明氮气流量为15sccm,镀膜温度为70℃,镀膜时间为30min,镀膜厚度为70nm时,在铝合金表面沉积出耐腐蚀、耐磨损、仿金色ZrN薄膜。
搜索关键词: 一种 铝合金 表面 沉积 zrn 薄膜 工艺 研究
【主权项】:
一种利用中频反应磁控溅射在铝合金表面沉积耐腐蚀、耐磨损和颜色亮丽的ZrN薄膜的方法,其特征在于按如下的步骤进行:(1)采用SP‑0707AS中频反应磁控溅射镀膜机,中频功率为5KW,本底真空度为6.0×10‑3Pa,靶材为270×70×5 mm的长方形对称Zr靶,工作气体Ar气和反应气体N2气的纯度均为99.99%,溅射气压为3.0×10‑1Pa,偏压为150V,占空比为80%;(2)基体采用铝合金镜面板,试样制成40×60mm,15×30mm两种规格;铝合金基体使用前用超声波清洗,清洗剂中加入金属清洗剂,温度控制在50℃,清洗10 min后用去离子水清洗10 min,再用丙酮擦拭,最后用酒精漂洗吹干;(3)将金属铝合金镜面板挂到真空炉悬架上,靶基距控制在120mm,关闭真空室,抽真空到6.0×10‑3Pa;到达本底真空度后,通入Ar气辉光清洗,调压至3.0×10‑3Pa;主轰击,加入N2气,调压至3.0×10‑1Pa,进行沉积;(4)氮气流量为15sccm,镀膜温度为70 ℃,镀膜时间为30 min,镀膜厚度为70 nm时,在铝合金表面沉积出耐腐蚀、耐磨损、仿金色的ZrN薄膜。
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