[发明专利]微波照射装置无效
| 申请号： | 201210044596.6 | 申请日： | 2012-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN102651923A | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | 河西繁;山崎良二;芦田光利;小畑雄治;田中澄 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05B6/80 | 分类号： | H05B6/80;H05B6/68;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李伟;舒艳君 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种微波照射装置，能够对被处理体照射微波，同时与此分别独立地进行被处理体的温度控制。在对被处理体(W)照射微波来进行处理的微波照射装置(2)中，具备：可以进行真空排气的处理容器(4)；支承被处理体的支承台(6)；导入处理气体的处理气体导入装置(106)；导入微波的微波导入装置(72)；加热被处理体的加热装置(16)；通过冷却气体冷却被处理体的气体冷却装置(104)；测量被处理体的温度的辐射温度计(64)；和基于辐射温度计的测量值来控制加热装置与气体冷却装置，从而调整被处理体的温度的温度控制部(70)。由此，一边对被处理体照射微波，一边与此分别独立地进行被处理体的温度控制。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 照射 装置 | ||
【主权项】：
一种微波照射装置，对被处理体照射微波来进行处理，该微波照射装置的特征在于，具备：能够进行真空排气的处理容器；支承所述被处理体的支承台；向所述处理容器内导入处理气体的处理气体导入装置；向所述处理容器内导入微波的微波导入装置；加热所述被处理体的加热装置；通过冷却气体冷却所述被处理体的气体冷却装置；测量所述被处理体的温度的辐射温度计；和温度控制部，其基于所述辐射温度计的测量值来控制所述加热装置与所述气体冷却装置，从而调整所述被处理体的温度。
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