[发明专利]立体结构与微胞释放涂布方法无效

专利信息
申请号: 201210046199.2 申请日: 2012-02-23
公开(公告)号: CN103192553A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 巫晟逸;杨明桓;蔡镇竹;刘楫安 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: B32B3/14 分类号: B32B3/14;B32B3/30;B05D7/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 祁建国;梁挥
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种立体结构与微胞释放涂布方法。所述方法是在表面具有数个凹槽的三维物件上涂布一微胞溶液,并使微胞溶液因毛细现象而吸附于每一凹槽内,然后待微胞溶液中的挥发性载体挥发,使微胞溶液中的涂料微胞破裂而在每一凹槽内形成一涂层。如此一来,可达到均匀涂层厚度的效果。
搜索关键词: 立体 结构 释放 方法
【主权项】:
一种立体结构,其特征在于所述立体结构包括:一三维物件,其表面具有多数个凹槽,每一凹槽的宽度在0.5微米~1000微米之间;以及至少一涂层,位于每一凹槽内,其中该至少一涂层是由多数个涂料微胞破裂而形成在每一凹槽内的。
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