[发明专利]形成封装堆叠结构的工艺有效

专利信息
申请号: 201210047905.5 申请日: 2012-02-27
公开(公告)号: CN103050486A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 林志伟;郑明达;陈孟泽;吕文雄;黄贵伟;刘重希 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L23/538;H01L23/31;H01L21/98
代理公司: 北京德恒律师事务所 11306 代理人: 陆鑫;房岭梅
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明包括一种器件,该器件包括层间电介质、位于该层间电介质下方的器件管芯、以及位于该层间电介质下方并且位于该器件管芯上方的管芯接合膜,其中,管芯接合膜与器件管芯相接合。多个再分布线的一部分与管芯接合膜相齐平。多个Z互连件与器件管芯和多个再分布线电连接。含聚合物材料位于层间电介质下方。器件管芯、管芯接合膜、和多个Z互连件设置在含聚合物材料中。本发明还提供了一种形成封装堆叠结构的工艺。
搜索关键词: 形成 封装 堆叠 结构 工艺
【主权项】:
一种器件,包括:层间电介质;第一器件管芯,位于所述层间电介质下方;管芯接合膜,位于所述层间电介质下方并且位于所述第一器件管芯上方,其中,所述管芯接合膜与所述第一器件管芯相接合;多个第一再分布线,包括与所述管芯接合膜齐平的第一部分;多个第一Z互连件,与所述第一器件管芯和所述多个第一再分布线电连接;以及第一含聚合物材料,位于所述层间电介质下方,其中,所述第一器件管芯、所述管芯接合膜、和所述多个第一Z互连件设置在所述第一含聚合物材料中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210047905.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top