[发明专利]一种具有P型埋层结构的槽栅二极管有效
申请号: | 201210049388.5 | 申请日: | 2012-02-29 |
公开(公告)号: | CN102593154A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 李泽宏;赵起越;余士江;张金平;任敏;张波 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/861 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 葛启函 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 一种具有P型埋层结构的槽栅二极管,属于半导体器件技术领域。包括N+衬底、背面的金属化阴极和正面的N-漂移区;N-漂移区顶部两侧之外是槽型栅电极和栅氧化层;N-漂移区顶部两侧分别具有一个N型重掺杂区,两N型重掺杂区之间具有一个P型重掺杂区;P型重掺杂区正下方具有两个以上相互间隔、均匀分布的条形P型埋层区;P型埋层区和P型重掺杂区之间具有若干间隔分布的P型柱区。P型埋层区、N型重掺杂区、栅氧层三者之间形成载流子积累区A,相邻两个P型埋层区之间的区域形成电子通路B。本发明通过引入一个P型埋层区,使得器件在不影响反向击穿电压和反向泄露电流的情况下,具有更小的导通压降、更短的反向恢复时间和极低的反向恢复峰值电流。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 型埋层 结构 二极管 | ||
【主权项】:
一种具有P型埋层结构的槽栅二极管,其结构包括N+衬底(2),位于N+衬底(2)背面的金属化阴极(1),位于N+衬底(2)正面的N‑漂移区(3)和位于整个二极管顶层的金属化阳极(9);在N‑漂移区(3)的顶部两侧之外分别具有一个槽型栅电极(5),两个槽型栅电极(5)与N‑漂移区(3)之间分别通过各自的二氧化硅栅氧化层(4)相隔离;在N漂移区(3)的顶部两侧分别具有一个条形N型重掺杂区(7),两个条形N型重掺杂区(7)之间具有一个条形P型重掺杂区(8);在条形P型重掺杂区(8)下方、且位于两个二氧化硅栅氧化层(4)中间区域的N‑漂移区(3)中具有至少两个以上相互间隔、且均匀分布的条形P型埋层区(6);在条形P型埋层区(6)和条形P型重掺杂区(8)之间具有若干间隔分布、且与条形P型埋层区(6)和条形P型重掺杂区(8)分别相连的P型柱区(10);金属化阳极(9)覆盖于两个条形N型重掺杂区(7)、条形P型重掺杂区(8)和两个槽型栅电极(5)表面。
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