[发明专利]喷射沉积-激光重熔复合成形工艺及设备有效
申请号: | 201210050857.5 | 申请日: | 2012-02-29 |
公开(公告)号: | CN102653850A | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
发明(设计)人: | 林峰;张磊;张婷;张人佶 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C23C4/12 | 分类号: | C23C4/12;C23C4/06;C23C24/10 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种喷射沉积-激光重熔复合成形工艺及设备,所述设备包括:具有工艺腔室的腔室本体;驱动支撑装置,所述驱动支撑装置设在所述工艺腔室内,用于支撑和驱动沉积基体运动;喷射装置,所述喷射装置与所述腔室本体相连,用于向所述沉积基体上的沉积区域内喷射金属液;和激光扫描装置,所述激光扫描装置与所述腔室本体相连,用于对所述沉积层进行激光扫描,以将所述沉积层进行激光重熔和束流冲击。根据本发明实施例的喷射沉积-激光重熔复合成形设备工艺,将激光的扫描重熔技术与喷射沉积成形技术结合,通过控制沉积区域的温度和重熔沉积层的方法,减少或消除沉积层组织中的孔隙和疏松,致密化喷射沉积的材料组织,以进一步提高其性能。 | ||
搜索关键词: | 喷射 沉积 激光 复合 成形 工艺 设备 | ||
【主权项】:
一种喷射沉积‑激光重熔复合成形工艺,其特征在于,包括以下步骤:喷射沉积:向沉积基体上的沉积区域内喷射金属液以在所述沉积区域内形成沉积层;激光重熔:利用激光扫描所述沉积层以对所述沉积层进行激光重熔和束流冲击形成重熔层;和沉积坯成形:驱动所述沉积基体运动且在所述沉积基体运动过程中重复执行所述喷射沉积和激光重熔,以在所述沉积基体上形成由多层沉积‑重熔层构成的沉积坯。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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