[发明专利]金属溅射膜与利用其的金属粉末有效

专利信息
申请号: 201210058642.8 申请日: 2012-03-07
公开(公告)号: CN102676995A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 梁主欢;申知桓;赵廷珉;魏圣权 申请(专利权)人: 三星电机株式会社
主分类号: C23C14/14 分类号: C23C14/14;C23C14/34;B22F1/00;H01G4/008
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 李丙林;张英
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明披露一种金属溅射膜与利用其的粉末。该金属溅射膜包括基膜;在基膜上形成的凹凸图案;以及溅射在凹凸图案上的金属。根据本发明的示例性实施方式,通过有效控制在大量生产可用作超高容量MLCC内部电极的板状金属粉末时所需要的金属溅射膜的结构,能够大量生产金属粉末,且因此与利用相关领域的晶片的情况相比,在以卷对卷方法通过利用金属溅射膜生产金属粉末的情况下,可以更好地降低成本并提高生产率。
搜索关键词: 金属 溅射 利用 金属粉末
【主权项】:
一种金属溅射膜,包括:基膜;在所述基膜上形成的凹凸图案;以及溅射在所述凹凸图案上的金属。
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