[发明专利]掩膜板及其制备方法有效
| 申请号： | 201210068040.0 | 申请日： | 2012-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN102591134A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 邱勇;彭兆基 | 申请（专利权）人： | 昆山维信诺显示技术有限公司;清华大学;北京维信诺科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 黄晓明 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜板及其制备方法，其中，掩膜板包括母板，母板于一面设有通过电铸方式形成的若干呈阵列状排布的凹槽、及围绕凹槽的电铸层，母板还设有通过刻蚀方式形成的贯穿母板的若干狭槽，狭槽与凹槽部分或全部相通。这样不但可以满足高分辨率对掩模板高开口率的要求，而且可以更好地满足大尺寸掩膜板强度方面的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，包括母板，其特征在于：所述母板于一面设有通过电铸方式形成的若干呈阵列状排布的凹槽、及围绕凹槽的电铸层，所述母板还设有通过刻蚀方式形成的贯穿母板的若干狭槽，所述狭槽与所述凹槽部分或全部相通。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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