[发明专利]考虑拔模制造约束的拓扑优化设计方法无效

专利信息
申请号: 201210071248.8 申请日: 2012-03-17
公开(公告)号: CN102622486A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 谷小军;朱继宏;侯杰;张卫红;王丹 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 王鲜凯
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种考虑拔模制造约束的拓扑优化设计方法,用于解决在不规则网格模型的拓扑优化设计中引入拔模制造约束的技术问题。技术方案是采用拓扑优化变量定义方式,将拓扑优化设计变量定义为处于拔模方向上同一列相邻两个单元密度的比。通过该方式,将拔模约束引入到设计变量定义中。解决了在拓扑优化中引入大量约束的问题,并且将拔模约束条件引入到设计变量中,达到设计结构能够通过拔模制造的设计要求。
搜索关键词: 考虑 制造 约束 拓扑 优化 设计 方法
【主权项】:
1.一种考虑拔模制造约束的拓扑优化设计方法,其特征在于包括以下步骤:(a)通过结构的CAD模型建立有限元模型,定义载荷和边界条件;(b)建立拓扑优化模型:find X=(x1,x2,K,xn)min Φ(X)s.t.KU=F    (1)Gj(X)-Gj0,j=1,K,J]]>0<δ≤xi≤1,i=1,K,n其中,X为设计变量;n为设计变量个数;Φ(X)为目标函数;K为有限元模型总体刚度矩阵;F为节点等效载荷向量;U为节点整体位移向量;Gj(X)为第j个约束函数;为第j个约束函数的上限;J为约束的数量;δ=10-3以避免刚度矩阵奇异;对拔模方向上处于同一列的单元,其伪密度在拔模方向上的顺序依次为ρi,ρi+1,...,ρi+m,(m=1,K,M);拔模方向为模型的分模/型面4的法向方向,单元i距离模型的分模/型面4最近,单元i+m距离模型的分模/型面4最远,则:对处于拔模方向上同一列的单元ρi,ρi+1,...,ρi+m,(m=1,K,M),0<δ≤xi≤1则:0<ρi10<ρi+1ρi1M0<ρi+mρi+m-11---(3)]]>由上式可得:1>ρi≥ρi+1≥,...,≥ρi+m≥0,(m=1,K,M),即满足拔模约束条件;(c)将模型进行一次有限元分析;通过优化灵敏度分析,求得目标函数和约束条件的灵敏度;进行优化设计,得到优化结果。
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