[发明专利]磁隧道结器件、电子系统以及存储系统及其制造方法有效
申请号: | 201210072710.6 | 申请日: | 2012-03-19 |
公开(公告)号: | CN102683580A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 朴正宪;吴世忠;金佑填;朴相奂;李将银;林佑昶 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08;H01L43/12;H01L27/22;G11C11/15 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张波 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明提供一种磁隧道结器件,该磁隧道结器件包括:固定磁结构;自由磁结构;自由磁结构;以及在固定磁结构和自由磁结构之间的隧道势垒,固定磁结构和自由磁结构的至少之一包括垂直磁化保存层、在垂直磁化保存层与隧道势垒之间的磁性层、以及在垂直磁化保存层与磁性层之间的垂直磁化诱导层。 | ||
搜索关键词: | 隧道 器件 电子 系统 以及 存储系统 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种磁隧道结器件,包括:固定磁结构;自由磁结构;以及在所述固定磁结构与所述自由磁结构之间的隧道势垒,所述固定磁结构和所述自由磁结构的至少之一包括:垂直磁化保存层,在所述垂直磁化保存层与所述隧道势垒之间的磁性层,以及在所述垂直磁化保存层和所述磁性层之间的垂直磁化诱导层。
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