[发明专利]改进光输出均匀性的光腔无效

专利信息
申请号: 201210073217.6 申请日: 2012-03-19
公开(公告)号: CN102705724A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 杨皓宇 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: F21S2/00 分类号: F21S2/00;F21V13/08;F21V19/00;G02F1/13357;H01L25/075;H01L33/50;H01L33/60
代理公司: 北京德恒律师事务所 11306 代理人: 陆鑫;房岭梅
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种辐射器件。该器件包括改进光输出均匀性的光腔,该光腔包括顶表面、底表面、以及侧壁。光转阵列包括至少一个形成在第一侧壁上的光源。该器件还包括反射涂层,该反射涂层至少形成在底表面上。该顶表面允许光传播,并且包括光转换层。
搜索关键词: 改进 输出 均匀
【主权项】:
一种器件,包括:光腔,包括第一表面、第二表面和光转换层,所述第二表面与所述光转换层基本相对,所述第一表面从所述第二表面延伸到所述光转换层;至少一个光源,位于所述第一表面上;以及反射涂料,位于所述第二表面上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210073217.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top