[发明专利]制造位相差板的方法无效

专利信息
申请号: 201210073948.0 申请日: 2012-03-20
公开(公告)号: CN103323898A 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 邱大任;洪维泽;陈秋芳;吴昱寯 申请(专利权)人: 远东新世纪股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/1337;G02B27/26
代理公司: 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 代理人: 张雅军;秦小耕
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种制造位相差板的方法,包含:在基材上形成未固化的光固化材料层;提供一个图案化遮蔽层,以局部地遮蔽该未固化的光固化材料层表面;使第一光源通过该图案化遮蔽层,借以形成部分区域固化的光固化材料层;移除该图案化遮蔽层;以第二光源照射,借此形成具有微结构表面的结构化的光固化材料层;在该结构化的光固化材料层的微结构表面上形成配向层;在该配向层上形成液晶层,该液晶层具有至少一个厚层区与至少一个薄层区。利用两次光照光固化材料层,以在光固化材料层上产生凹凸微结构,借此使形成于其上的配向层及液晶层也具有凹凸微结构,并提供所需求的位相差效果。
搜索关键词: 制造 相差 方法
【主权项】:
一种制造位相差板的方法,其特征在于其包含:在基材上形成未固化的光固化材料层,该未固化的光固化材料层是由可光固化组成物所构成,该可光固化组成物包含至少一种具有多个反应性官能基的可光固化预聚物,且该可光固化预聚物具有70‑700g/mol的官能基当量;提供一个图案化遮蔽层,以局部地遮蔽该未固化的光固化材料层表面,使得该未固化的光固化材料层形成至少一个遮蔽区及至少一个非遮蔽区;使第一光源通过该图案化遮蔽层,使得该未固化的光固化材料层中的非遮蔽区的该可光固化预聚物产生固化反应,借以使该未固化的光固化材料层形成部分区域固化的光固化材料层,其上具有至少一个凸状固化区与至少一个凹状未固化区;移除该图案化遮蔽层;以第二光源照射,以进一步固化该部分区域固化的光固化材料层,使该部分区域固化的光固化材料层的凹状未固化区产生固化反应,借此形成具有凹凸微结构表面的结构化的光固化材料层;在该结构化的光固化材料层的微结构表面上形成配向层;在该配向层上形成液晶层,并通过该配向层而配向;及固化该液晶层,其中,固化后的液晶层具有至少一个厚层区与至少一个薄层区。
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