[发明专利]在接合工艺中实施回流的方法有效

专利信息
申请号: 201210074975.X 申请日: 2012-03-20
公开(公告)号: CN103111698A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: 林修任;林志伟;陈正庭;郑明达;刘重希 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: B23K1/005 分类号: B23K1/005;H01L21/60
代理公司: 北京德恒律师事务所 11306 代理人: 陆鑫;房岭梅
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种在接合工艺中实施回流的方法包括:将覆盖件置于下部封装元件的上方,其中,覆盖件包括与下部封装元件对准的开口。将上部封装元件置于下部封装元件的上方。上部封装元件与开口对准,在上部封装元件和下部封装元件之间设置焊料区域。将覆盖件和上部封装元件暴露在辐射中,以回流焊料区域。本发明还公开了在接合工艺中实施回流的方法。
搜索关键词: 接合 工艺 实施 回流 方法
【主权项】:
一种方法,包括:将覆盖件置于下部封装元件的上方,其中,所述覆盖件包括与所述下部封装元件对准的开口;将上部封装元件置于所述下部封装元件的上方,其中,所述上部封装元件与所述开口对准,以及其中,将焊料区域设置在所述上部封装元件和所述下部封装元件之间;以及将所述覆盖件和所述上部封装元件暴露在辐射中,以回流所述焊料区域。
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