[发明专利]模板、模板的表面处理方法、模板的表面处理装置和图案形成方法无效
| 申请号： | 201210076341.8 | 申请日： | 2012-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN102692817A | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | 小林正子;平林英明;河村嘉久;比嘉百夏 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 祁丽;于辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及模板、模板的表面处理方法、模板的表面处理装置和图案形成方法。具体地，涉及一种包括具有凹凸图案的转写面的模板。所述模板被构造成在树脂的表面中形成反映所述凹凸图案的结构。所述树脂通过将处于在光固化性树脂液用光固化之前的状态下的光固化性树脂液充填入所述凹凸图案的凹部并使用光来固化所述光固化性树脂液而形成。所述模板包括基材和表面层。所述基材包括具有凹凸的主表面。所述表面层覆盖所述基材的凹凸并用于形成反映所述凹凸的结构的凹凸图案。所述表面层与处于在光固化性树脂液用光固化之前的状态下的光固化性树脂液之间的接触角不大于30度。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 表面 处理 方法 装置 图案 形成 | ||
【主权项】：
包括具有凹凸图案的转写面的模板，所述模板被构造成在树脂的表面中形成反映所述凹凸图案的结构，所述树脂通过将处于在光固化性树脂液用光固化之前的状态下的光固化性树脂液充填入所述凹凸图案的凹部并使用光来固化所述光固化性树脂液而形成，所述模板包括：包括具有凹凸的主表面的基材，所述基材对于用来固化所述光固化性树脂液的光是透过性的；和覆盖所述基材的凹凸的表面层，所述表面层用于形成反映所述凹凸的结构的凹凸图案，所述表面层与处于在光固化性树脂液用光固化之前的状态下的光固化性树脂液之间的接触角不大于30度。
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