[发明专利]用于计算结构的电磁散射属性和用于近似结构的重构的方法和设备有效
| 申请号： | 201210077764.1 | 申请日： | 2012-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN102692823A | 公开（公告）日： | 2012-09-26 |
| 发明（设计）人： | M·C·范布尔登 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F17/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于计算结构的电磁散射属性和用于近似结构的重构的方法和设备。还公开一种用于重构光栅轮廓的CSI算法。针对于电流密度J求解体积积分方程通过选择E和J的连续分量而采用与电场ES和电流密度J相关的矢量场FS的固有结构以确定J的近似解，其中F在一个或更多个材料边界处是连续的。F通过至少一个有限傅里叶级数相对于至少一个方向x、y表示，并且数值求解体积积分方程的步骤包括通过将F与包括沿两个方向上的材料和几何结构属性的卷积算符M卷积来确定J的分量。J可以通过至少一个有限傅里叶级数相对于两个方向表示。可以使用作用在E和J上的卷积算符PT和PN提取连续分量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 计算 结构 电磁 散射 属性 近似 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种计算结构的电磁散射属性的方法，所述结构包括相异属性的材料，所述相异属性在材料边界处引起电磁场内至少一处不连续，所述方法包括步骤：(a)通过使用场‑材料相互作用算符在电磁场的连续分量和对应于所述电磁场的被标定比例的电磁通量密度的连续分量上运算来确定对照电流密度的分量，以数值求解针对于对照电流密度的体积积分方程，被标定比例的电磁通量密度被形成为对照电流密度的不连续分量和电磁场的不连续分量的被标定比例的和；和(b)通过使用所确定的对照电流密度的分量计算所述结构的电磁散射属性。
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