[发明专利]光刻用冲洗液有效
| 申请号： | 201210078008.0 | 申请日： | 2005-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN102591160A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 越山淳;胁屋和正;金子文武;宫本敦史;泽田佳宏;田岛秀和 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/26;C08F226/10;C08F226/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 贾静环 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种新型光刻用冲洗液，及使用其的抗蚀图案的形成方法，所述光刻用冲洗液是，对于光致抗蚀图案，可以减少制品的表面缺陷，即所谓缺陷，并赋予抗蚀剂对电子射线照射的耐性，抑制图案收缩所使用的。调制包括含有在分子结构中具有氮原子的水溶性树脂的溶液的光刻用冲洗液，使用其通过以下工序形成抗蚀图案：(A)在基板上设置光致抗蚀膜的工序、(B)通过掩模图案对该光致抗蚀膜进行选择性曝光处理工序、(C)曝光后加热(PEB)处理工序、(D)碱性显影处理工序，及(E)使用上述光刻用冲洗液的处理工序。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 冲洗 | ||
【主权项】：
含有在分子结构中包含氮原子的水溶性树脂的溶液用于光刻用冲洗液的用途，其中，该水溶性树脂是乙烯基吡咯烷酮和乙烯基咪唑的共聚物。
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