[发明专利]用于X射线管的聚焦型阴极及其X射线源和制备方法有效

专利信息
申请号: 201210079962.1 申请日: 2012-03-23
公开(公告)号: CN102610474A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 邓敏;杨浩;刘瑞;李丁 申请(专利权)人: 邓敏;杨浩;刘瑞;李丁
主分类号: H01J35/06 分类号: H01J35/06;H01J35/14;H01J9/02
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人: 邓琪
地址: 430018 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种用于X射线管的聚焦型阴极,包括极基片、发射极、电子束选择性滤过部件、电子束聚焦部件和电子束二次聚焦部件。本发明提供的聚焦型阴极不仅可与现有的各种类型的阳极相配合制成聚焦型阴极X射线管,还能适用于以阴极阵列形式批量制备,在使用时,再进行分割而成单一组件。本发明提供的聚焦型阴极在工艺上实现了上下集成,提高适应性,还可显著降低生产和制造成本。
搜索关键词: 用于 射线 聚焦 阴极 及其 制备 方法
【主权项】:
一种用于X射线管的聚焦型阴极,其特征在于包括极基片,为上端开口槽体,包括第一槽壁、第二槽壁和水平设置的基底;发射极,设于所述基底;电子束选择性滤过部件,架设于所述第一槽壁和所述第二槽壁,其上滤过通孔正对所述发射极,所述通孔直径为1mm‑1000mm;电子束聚焦部件,置于所述电子束选择性滤过部件之上,包括第一聚焦体和第二聚焦体,所述第一聚焦体包括一个与水平面夹角为15°‑75°的第一聚焦侧面,所述第二聚焦体包括一个与水平面夹角为105°‑165°的第二聚焦侧面;电子束二次聚焦部件,架设于所述第一聚焦体和所述第二聚焦体,其上聚焦孔正对所述发射极。
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