[发明专利]光罩有效
| 申请号： | 201210080861.6 | 申请日： | 2012-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN103163729A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 徐维成 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/76 | 分类号： | G03F1/76 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 中国台湾桃园县龟山*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光罩，适用于微影机台，且光罩包括基板与设置在基板上的光罩图案。光罩图案包括至少一主要图案及多个次解析辅助图案。次解析辅助图案彼此分离设置在主要图案的周围，其中各个次解析辅助图案与主要图案之间的距离为主要图案的线宽的约3倍至10倍。上述光罩可在晶片上产生较佳的成像品质。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩 | ||
【主权项】：
一种光罩，适用于一微影机台，且该光罩包括一基板与设置在该基板上的一光罩图案，其特征在于，该光罩图案包括：至少一主要图案；以及多个次解析辅助图案，彼此分离设置在该主要图案的周围，其中各该次解析辅助图案与该主要图案之间的距离为该主要图案的线宽的3倍至10倍。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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