[发明专利]微小粒子分析装置及微小粒子分析方法有效

专利信息
申请号: 201210081015.6 申请日: 2012-03-23
公开(公告)号: CN102735656A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 棚濑广宣;外石满 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: G01N21/63 分类号: G01N21/63;G01N21/64
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种微小粒子分析装置及微小粒子分析方法,该微小粒子分析装置包括:被构造为利用激光束照射在流路中流动的微小粒子的光照射单元,以及被构造为检测由被激光束照射的微小粒子发出的光的检测单元。在该微小粒子分析装置中,光照射单元至少包括由半导体激光器构成的光源,将由光源产生的激光束的光束形状转变成顶帽型光束形状的光纤,以及被构造为向光源提供驱动电流的光源驱动控制单元,该驱动电流通过将高频电流叠加到直流上来获得。
搜索关键词: 微小 粒子 分析 装置 方法
【主权项】:
一种微小粒子分析装置,包括:光照射单元,被构造为利用激光束照射在流路中流动的微小粒子;以及检测单元,被构造为检测由被所述激光束照射的所述微小粒子发出的光;其中,所述光照射单元至少包括:光源,由半导体激光器构成,光纤,将由所述光源产生的所述激光束的光束形状转变为顶帽型光束形状,以及光源驱动控制单元,被构造为向所述光源提供驱动电流,所述驱动电流通过将高频电流叠加到直流上来获得。
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