[发明专利]基于阵列光电传感器的背面离轴对准系统、光刻装置及方法有效

专利信息
申请号: 201210083260.0 申请日: 2012-03-27
公开(公告)号: CN103365095A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 唐文力;王海江 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种基于阵列光电传感器的背面离轴对准系统,用于确定基底与工件台之间的相对位置关系,其中,该工件台,具有第一表面及与第二表面相对的第二表面,用于支撑该基底并提供该基底运动,该基底的背面与该工件台的第一表面接触,该对准系统包括:一成像光学系统,用于将该基底背面的至少一个对准标记成像于该工件台第一表面上方;阵列光电传感器,用于探测该对准标记的像,其中,该阵列传感器包括多数相互分离的光电传感器,每个光电传感器的光敏面尺寸大于该对准标记的像的最小尺寸该任意两个光电传感器的光敏面之间的间距小于该对准标记的像的最小尺寸;控制模块,用于采集并处理该对准标记的像信息以确定该基板背面的对准标记的位置信息。
搜索关键词: 基于 阵列 光电 传感器 背面 对准 系统 光刻 装置 方法
【主权项】:
一种基于阵列光电传感器的背面离轴对准系统,用于确定基底与工件台之间的相对位置关系,其中,所述工件台,具有第一表面及与第二表面相对的第二表面,用于支撑所述基底并提供所述基底运动,所述基底的背面与所述工件台的第一表面接触,该对准系统包括:一成像光学系统,用于将所述基底背面的至少一个对准标记成像于所述工件台第一表面上方;阵列光电传感器,用于探测所述对准标记的像,其中,所述阵列传感器包括多数相互分离的光电传感器,每个光电传感器的光敏面尺寸大于所述对准标记的像的最小尺寸所述任意两个光电传感器的光敏面之间的间距小于所述对准标记的像的最小尺寸;控制模块,用于采集并处理所述对准标记的像信息以确定所述基板背面的对准标记的位置信息。
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