[发明专利]用于光刻设备的调焦调平系统及测量方法有效
| 申请号： | 201210083277.6 | 申请日： | 2012-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN103365096A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 李志丹;程雪;陈飞彪 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于光刻设备的调焦调平系统，用以测量基底测量区域的位置信息，包括：光源，用于提供一光束；投影单元，用于使该光束照射于该基底并形成一反射光束；探测单元，用于探测该反射光束以生成一电信号；信号处理单元，用于处理该电信号，以获得该基底测量区域的位置信息；控制单元，接收该信号处理单元传送的该基底测量区域的位置信息，用于实现硅片位姿的调整控制；该探测单元探测分为静态测量方式和动态测量方式，根据工件台坐标的变化量与阙值的关系选择适用的测量方式。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 调焦 系统 测量方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的调焦调平系统，用以测量基底测量区域的位置信息，其特征在于，包括：光源，用于提供一光束；投影单元，用于使所述光束照射于所述基底并形成一反射光束；探测单元，用于探测所述反射光束以生成一电信号；信号处理单元，用于处理所述电信号，以获得所述基底测量区域的位置信息；控制单元，接收所述信号处理单元传送的所述基底测量区域的位置信息，用于实现硅片位姿的调整控制；所述探测单元探测分为静态测量方式和动态测量方式，根据工件台坐标的变化量与阙值的关系选择适用的测量方式。
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