[发明专利]碱法后制绒无死层发射极的制备工艺无效

专利信息
申请号: 201210083886.1 申请日: 2012-03-27
公开(公告)号: CN102623556A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 程亮;张黎明;刘鹏;姜言森;贾河顺;任现坤;姚增辉;张春艳 申请(专利权)人: 山东力诺太阳能电力股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人: 宋玉霞
地址: 250103 山东省济南*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于晶体硅太阳能电池的制作技术领域,具体涉及一种碱法后制绒无死层发射极的制备工艺。该发明采用先扩散后制绒的方法,制备具有优良性能的无死层发射极,此工艺可以有效地去除电池片表面的死层发射极区,提高太阳能电池的短波响应,减小暗电流,有效提高电池片的开路电压,并且易于工业化生产。
搜索关键词: 碱法后制绒无死层 发射极 制备 工艺
【主权项】:
一种碱法后制绒无死层发射极的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:(1)损伤层的去除:将硅片放入温度为50—95℃,浓度为100—200g/L的NaOH溶液中,浸泡10—50s;(2)低方阻扩散:将硅片放入扩散炉中,进行扩散制备低方阻为0—20ohm/sq的发射极;(3)去除含掺杂源的硅玻璃:采用浓度为5%—15%的HF酸溶液清洗硅片,制备的结深为1000—8000nm发射极;(4)表面碱制绒同时去除高掺杂死层发射极区:将硅片放入NaOH和IPA混合溶液中,完成表面制绒,同时去除硅片表面的死层发射极区,制备方阻为50—150ohm/sq的无死层发射极;(5)清洗:将已去除死层的硅片,放入浓度为5—15%的HCl和浓度为2%—10%的HF酸混合溶液中清洗0.5—5分钟。
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