[发明专利]利用双缝干涉法测量光学薄膜厚度的装置及方法有效
| 申请号： | 201210084551.1 | 申请日： | 2012-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN102607435A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | 贺泽龙;王司;白继元;白云峰;李林军 | 申请（专利权）人： | 黑龙江工程学院 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人： | 张宏威 |
| 地址： | 150050 黑龙江*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 利用双缝干涉法测量光学薄膜厚度的装置及方法，涉及测量光学薄膜厚度的装置及方法。它是为了解决现有的光学薄膜厚度的方法的测量精度低的问题。其装置：垂直入射至挡光板的偏振光束覆盖挡光板上的一号狭缝和二号狭缝，该偏振光束经待测光学薄膜透射并经一号狭缝出射形成第一束偏振光；该偏振光束二号狭缝出射形成第二束偏振光；第一束偏振光和第二束偏振光均入射至CCD探测器的探测面上，并形成干涉条纹，CCD探测器的探测面与挡光板相互平行。其方法：任取一段干涉条纹与光强公式进行拟合，获得待测光学薄膜引起的光程差，进而获得待测光学薄膜的厚度。本发明适用于测量光学薄膜厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 干涉 测量 光学薄膜 厚度 装置 方法 | ||
【主权项】：
利用双缝干涉法测量光学薄膜厚度的装置，其特征是：它包括挡光板(2)和CCD探测器(3)；挡光板(2)上开有一号狭缝(21)和二号狭缝(22)；待测光学薄膜(1)覆盖并固定在一号狭缝(21)的入射面上；垂直入射至挡光板(2)的偏振光束覆盖挡光板(2)上的一号狭缝(21)和二号狭缝(22)，该偏振光束经待测光学薄膜(1)透射并经一号狭缝(21)出射形成第一束偏振光；该偏振光束二号狭缝(22)出射形成第二束偏振光；第一束偏振光和第二束偏振光均入射至CCD探测器(3)的探测面上，并形成干涉条纹，CCD探测器(3)的探测面与挡光板(2)相互平行。
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