[发明专利]聚焦调整装置、照相机模块制造装置、聚焦调整方法及照相机模块制造方法有效

专利信息
申请号: 201210087460.3 申请日: 2012-03-29
公开(公告)号: CN102854605A 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 重光学道;花户宏之 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02B7/28 分类号: G02B7/28;G02B7/36;G03B13/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 吕琳;李家麟
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的聚焦调整装置具备:检测部,检测距离y;运算部,根据下式(1)来运算距离dz;聚焦调整部,当距离dz为正值时,使聚焦透镜(21)和像面(22)间的相对距离缩短dz,当距离dz为负值时,使聚焦透镜(21)和像面(22)间的相对距离扩大|dz|。 …式(1)。
搜索关键词: 聚焦 调整 装置 照相机 模块 制造 方法
【主权项】:
1. 一种聚焦调整装置,其具备位置调整单元,所述位置调整单元调整照相机模块中的聚焦透镜与像面间的相对位置,该聚焦调整装置的特征在于:具备有检测单元和运算单元;所述检测单元在位置调整之前检测以下两个位置间的距离y,该两个位置为:既穿过所述聚焦透镜的中心又和所述聚焦透镜的光轴构成角度θ的直线与所述像面相交的位置、以及所述光轴与所述像面相交的位置;在将所述照相机模块所适用的最佳物距设为a,且将所述聚焦透镜的焦距设为f的情况下,所述运算单元按照下式(1)来运算求取距离dz,…式(1);当dz为正值时,所述位置调整单元将所述聚焦透镜与所述像面间的相对距离缩短dz;当dz为负值时,所述位置调整单元将所述聚焦透镜与所述像面间的相对距离扩大|dz|。
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