[发明专利]高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法及涂层板无效
| 申请号： | 201210087769.2 | 申请日： | 2012-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN102620455A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 解欣业;张浙军 | 申请（专利权）人： | 解欣业;张浙军 |
| 主分类号： | F24J2/48 | 分类号： | F24J2/48;B32B17/06;B32B33/00 |
| 代理公司： | 沈阳智龙专利事务所(普通合伙) 21115 | 代理人： | 宋铁军;周智博 |
| 地址： | 102606 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法，其特征在于：在以玻璃材质为衬底的材料上利用磁控溅射法制备太阳光谱选择性吸收涂层，具体制备过程为：备衬底，对衬底进行清洗，然后锁室大气真空转换，再依次对衬底进行进行真空过渡、磁控溅射镀制、真空过渡、锁室真空大气转换，之后在衬底上便形成太阳光谱选择性吸收涂层，使具有太阳光谱选择性吸收涂层的衬底具备性能优异的太阳光谱选择性吸收性能。本发明很好的解决了以往在光能利用方面所存在的问题，大大提高了太阳光谱选择性吸收涂层的工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 高效 大面积 太阳 光谱 选择性 吸收 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种高效大面积的太阳光谱选择性吸收涂层制备方法，其特征在于：在以玻璃材质为衬底（1）的材料上利用磁控溅射法制备太阳光谱选择性吸收涂层（2），具体制备过程为：备衬底（1），对衬底（1）进行清洗，然后锁室大气真空转换，再依次对衬底（1）进行进行真空过渡、磁控溅射镀制、真空过渡、锁室真空大气转换，之后在衬底（1）上便形成太阳光谱选择性吸收涂层（2），使具有太阳光谱选择性吸收涂层（2）的衬底（1）具备性能优异的太阳光谱选择性吸收性能。
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