[发明专利]光刻方法和组件有效
| 申请号： | 201210090811.6 | 申请日： | 2012-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN102736440A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 张少先;J·J·M·巴塞曼斯;J·C·M·贾斯伯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻方法和组件。一种确定图案特征的属性对于用以提供该图案特征的光刻设备的光学像差变化的灵敏度的光刻方法。所述方法包括：控制光刻设备的配置以建立第一像差状态，和在光刻设备处于该第一像差状态时用该光刻设备形成图案特征的第一图像；测量图像的属性；控制光刻设备的配置以建立不同的第二像差状态，和在光刻设备处于该第二像差状态时用该光刻设备形成相同的图案特征的图像；测量图像的同一属性；和使用测量结果确定图案特征的属性对于像差状态变化的灵敏度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 组件 | ||
【主权项】：
一种确定图案特征的属性对于用以提供所述图案特征的光刻设备的光学像差变化的灵敏度的方法，所述方法包括下列步骤：控制光刻设备的配置以建立第一像差状态，和在光刻设备处于所述第一像差状态时用该光刻设备形成图案特征的第一图像；测量图像的属性；控制光刻设备的配置以建立不同的第二像差状态，和在光刻设备处于所述第二像差状态时用该光刻设备形成相同的图案特征的图像；测量所述图像的同一属性；和使用测量结果以确定图案特征的属性对于像差状态变化的灵敏度。
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