[发明专利]一种用于水体中Hg(II)高灵敏检测的荧光传感器制备方法无效
申请号: | 201210090815.4 | 申请日: | 2012-03-27 |
公开(公告)号: | CN103364376A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 傅绪成;谢成根;吴菊 | 申请(专利权)人: | 傅绪成 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 237012 安徽省六*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 一种用于水体中Hg(II)高灵敏检测的荧光传感器制备方法,包括用氧化硅纳米粒子作模板,在其表面制备具有发散状开孔结构多孔硅包覆层,然后利用溶胶-凝胶反应将荧光探针分子高密度组装到表面多孔硅的孔道上。本发明的制备过程包括如下两个步骤:首先在氧化硅纳米粒子表面合成具有表面多孔结构的多孔硅层;将合成的罗丹明6G衍生物Hg(II)荧光探针分子硅烷化,然后氮气保护下,在甲苯溶液中利用硅烷化反应将荧光探针分子高密度组装到制备的表面多孔硅的孔道上,将所得固体材料离心、洗涤和干燥后,便得到具有高比表面积、高灵敏的Hg(II)荧光传感器。 | ||
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【主权项】:
一种用于水体中Hg(II)高灵敏检测的荧光传感器制备方法,其特征在于制备过程包括表面多孔硅的制备和利用溶胶-凝胶反应将荧光探针分子高密度组装到表面多孔硅的孔道上两个步骤。1.根据权利要求所述的一种用于水体中Hg(II)高灵敏检测的荧光传感器制备方法,其特征是:所说多孔硅基质为具有表面多孔结构的氧化硅材料。
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