[发明专利]等离子处理装置以及微波导入装置有效
| 申请号： | 201210093675.6 | 申请日： | 2012-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN102737947A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 藤野丰;植田笃;尾崎成则;北川淳一 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李伟;舒艳君 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供等离子处理装置以及微波导入装置，用简单的构成使等离子的分布均匀化。等离子处理装置(1)具备向处理容器(2)内导入微波的微波导入装置(5)。微波导入装置(5)包括嵌合于顶部(11)的多个开口部的多个微波透过板(73)。多个微波透过板(73)在嵌合于顶部(11)的多个开口部的状态下，配置于与载置台(21)的载置面(21a)平行的一个假想的平面上。多个微波透过板(73)包括微波透过板(73A～73G)。设定为微波透过板(73G、73A)的中心点(PG，PA)间距离与微波透过板(73G、73B)的中心点(PG、PB)间距离相互相等或者几乎相等。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 以及 微波 导入 | ||
【主权项】：
一种等离子处理装置，其特征在于，具备：处理容器，其容置被处理体；载置台，其配置于上述处理容器的内部，具有载置上述被处理体的载置面；气体供给机构，其向上述处理容器内供给处理气体；以及微波导入装置，其产生用于在上述处理容器内生成上述处理气体的等离子的微波，并且将上述微波导入上述处理容器内，上述微波导入装置具有：导电性部件，该导电性部件配置于上述处理容器的上部，且具有多个开口部；以及多个微波透过窗，该多个微波透过窗与上述多个开口部嵌合，并且能够使微波透过而将该微波导入上述处理容器内，上述多个微波透过窗在嵌合于上述多个开口部的状态下配置于与上述载置面平行的一个假想的平面上，并且包括第1微波透过窗、和与上述第1微波透过窗邻接的第2微波透过窗以及第3微波透过窗，上述第1微波透过窗至第3微波透过窗，以设定为上述第1微波透过窗的中心点与上述第2微波透过窗的中心点的距离、和上述第1微波透过窗的中心点与上述第3微波透过窗的中心点的距离相互相等或者几乎相等的方式配置。
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