[发明专利]光学特性测量装置有效
| 申请号： | 201210094553.9 | 申请日： | 2012-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN102735427A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 安藤利典 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 康建忠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光学特性测量装置。该光学特性测量装置在多个评估面上获取与被检测的光学系统的图像特性有关的测量值，并且测量光学特性，该光学特性测量装置包括测量值校正单元，其校正评估面上的与射束的线扩散分布和点扩散分布中的一个的宽度或光强度有关的测量值，其中，在测量值与宽度有关的情况下，像面被视为评估基准面，并且，测量值校正单元输出校正值；在测量值与光强度有关的情况下，像面被视为评估基准面，并且，测量值校正单元也输出校正值，并且，基于校正值测量被检测的光学系统的光学特性。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 特性 测量 装置 | ||
【主权项】：
一种光学特性测量装置，该光学特性测量装置在通过被检测的光学系统导致的物体的像面的附近的多个评估面上获取与被检测的光学系统的图像特性有关的测量值，并且基于各测量值测量被检测的光学系统的光学特性，该光学特性测量装置包括：测量值校正单元，该测量值校正单元校正所述多个评估面上的与通过被检测的光学系统导致的射束的线扩散分布和点扩散分布中的一个的宽度或光强度有关的测量值，其中，在测量值与射束的线扩散分布和点扩散分布中的一个的宽度有关的情况下，所述像面被视为评估基准面，并且，测量值校正单元输出校正值，使得当评估面与评估基准面相比接近被检测的光学系统时，测量值根据接近量增加，并且当评估面与评估基准面相比移动离开被检测的光学系统时，测量值根据移动离开量减小；在测量值与射束的线扩散分布和点扩散分布中的一个的光强度有关的情况下，所述像面被视为评估基准面，并且，测量值校正单元输出校正值，使得当评估面与评估基准面相比接近被检测的光学系统时，测量值根据接近量减小，并且，当评估面与评估基准面相比移动离开被检测的光学系统时，测量值根据移动离开量增加，并且，基于与测量值相比具有提高的对称性的校正值测量被检测的光学系统的光学特性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210094553.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
