[发明专利]一种嵌入蛇形平面电磁带隙结构及其构建方法有效

专利信息
申请号: 201210096504.9 申请日: 2012-04-01
公开(公告)号: CN102630127A 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 阎照文;王彦盛;于文璐;曹晋 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: H05K1/16 分类号: H05K1/16;H05K3/46;H01P3/08
代理公司: 北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 代理人: 王顺荣;唐爱华
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种嵌入蛇形平面电磁带隙结构,该结构自顶向下由三层构成,分别为电源层、介质层和地层。电源层和地层的材料是铜,介质层的材料是FR-4。本发明在传统平面EBG结构的基础上,适当减小中心板的面积,以减小其电容电感,使得阻带带宽变大。同时引入蛇形微带线连接两两单元,充分利用冗余空间,增大桥状结构的电感。在合理选取尺寸的前提下,可以得到阻带带宽大、下截止频率低的EBG结构。其构建方法有五大步骤:一、在ADS中建模,仿真优化得EBG单元的大致尺寸;二、利用上述尺寸,在HFSS中建立EBG单元的模型;三、在HFSS中建立EBG结构色散图求解模型并绘制色散图;四、建立3×3单元格的EBG结构的仿真模型,设置端口并仿真;五,制板并用VNA测试该板的抑制性能。
搜索关键词: 一种 嵌入 蛇形 平面 磁带 结构 及其 构建 方法
【主权项】:
一种嵌入蛇形平面电磁带隙结构,其特征在于:该结构是由一个EBG单元沿X、Y方向在二维平面上周期性延拓形成的3×3EBG结构,每个EBG单元由三层构成,自上而下依次是蚀刻成EBG形式的电源层、介质层和完整的地层,电源层、地层是厚度为1.2mi铜片,平面尺寸为30×30mm2,介质层是30×30×0.4mm3的矩形块,其材料是FR‑4,介电常数为4.3,损耗角正切为0.02,电源层、地层都能蚀刻成EBG平面,EBG平面是中心对称的周期单元,它由一块中心金属贴片和四个连接两两单元的蛇形微带线构成,蛇形微带线是嵌在中心金属贴片内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210096504.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top