[发明专利]一种便捷、高效提高氧化石墨层间距的方法无效
| 申请号： | 201210096806.6 | 申请日： | 2012-04-05 |
| 公开（公告）号： | CN102602921A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | 徐志伟;陈磊;张瑶瑶;郭启微;陈光伟;王春红;钱晓明 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学 |
| 主分类号： | C01B31/04 | 分类号： | C01B31/04;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 天津才智专利商标代理有限公司 12108 | 代理人： | 庞学欣 |
| 地址： | 300387 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种便捷、高效提高氧化石墨层间距的方法。其是将氧化石墨置于60Co的辐照源室内，然后在辐照剂量率为0.6×103Gy/h～6×103Gy/h，辐照剂量为1×105Gy～2×106Gy的条件下对其进行γ射线辐照，辐照时间为16～3000小时，使氧化石墨的表面剥离而形成石墨烯纳米片。本发明方法是利用γ射线粒子能量高、穿透力强的特点，使空气中的氧气与氧化石墨的片层发生反应，从而大大提高了氧化石墨的层间距，显著降低了石墨烯纳米片的平均层数，并且所获得的石墨烯纳米片比表面增加，同时显著提高了超声处理后石墨烯纳米片中单片层的比例，因此可获得高品质功能化石墨烯材料。另外，本发明方法还具有操作过程简单、成本低廉，绿色环保等优点，并可实现工业化批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 便捷 高效 提高 氧化 石墨 间距 方法 | ||
【主权项】：
一种便捷、高效提高氧化石墨层间距的方法，其特征在于：所述的便捷、高效提高氧化石墨层间距的方法是将氧化石墨置于60Co的辐照源室内，然后在辐照剂量率为0.6×103Gy/h～6×103Gy/h，辐照剂量为1×105Gy～2×106Gy的条件下对其进行γ射线辐照，辐照时间为16～3000小时，使氧化石墨的表面剥离而形成石墨烯纳米片。
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