[发明专利]带辅助线条的双层衰减相移L/S掩模锥形衍射场的计算方法

摘要

本发明提供一种带SRAF的双层衰减相移L/S掩模锥形衍射场的计算方法，具体步骤为：步骤一、设定电磁场展开时的空间谐波数n，n为奇数；步骤二、针对带辅助线条的双层衰减相移L/S掩模的每一光栅层，对其介电常数进行傅里叶Fourier展开；步骤三、根据布洛开条件，分别求解第i个衍射级次的波矢量沿着切向和法向的分量；步骤四、利用步骤二中和步骤三中计算的参数，求解每层光栅的特征矩阵，根据电磁场切向连续边界条件，利用增强透射矩阵法求解出射区域的衍射场。采用本发明能分析带辅助线条的双层衰减相移L/S掩模的锥形衍射场。

主权项

1.一种带辅助线条的双层衰减相移L/S掩模锥形衍射场的计算方法，其特征在于，具体步骤为：步骤一、设定电磁场展开时的空间谐波数n，n为奇数；步骤二、针对带辅助线条的双层衰减相移L/S掩模的每一光栅层，对其介电常数进行傅里叶Fourier展开；介电常数的Fourier展开式为：ϵl(x)=Σh=-DDϵl,hexp(j2πhx/Λ)---(1)]]>介电常数倒数的Fourier展开式为：1/ϵl(x)=Σh=-DDϵ‾l,hexp(j2πhx/Λ)---(2)]]>其中l＝[1，2]，D＝n-1，ε_l(x)为第l层光栅的介电常数，ε_l，h为第l层光栅相对介电常数第h个Fourier分量，为第l层光栅相对介电常数倒数的第h个Fourier分量，Λ为带辅助线条的双层衰减相移L/S掩模周期；步骤三、根据布洛开条件，分别求解第i个衍射级次的波矢量沿着切向和法向的分量，i取遍[-m，m]中的整数，2m+1＝n，即i所取值的个数为n，m为正整数；波矢量沿着切向即x、y方向的分量为；kxi=ko[nIsinθcosφ-i(λ0/Λ)]ky=konIsinθsinφ---(3)]]>其中k_o为入射光在真空中的波矢量，λ₀为入射光在真空中的波长，n_I为入射区的折射率，θ为光线入射角，φ为光线入射的方位角；波矢量沿着光栅平面的法向即z方向的分量为：kl′,zi=+[(k0nl′)2-kxi2-ky2]2(kxi2+ky2)<(k0nl′)2-j[kxi2+ky2-(k0nl′)2]1/2(kxi2+ky2)>(k0nl′)2l′=I,II---(4)]]>其中下标I表示入射区，下标II表示出射区；当l′＝I时，n_l′表示入射区的折射率，当l′＝II时，n_l′表示出射区的折射率，j表示虚数单位；步骤四、利用步骤二中的ε_l，h、和步骤三中的k_xi、k_y、k_l′，zi，求解每层光栅的特征矩阵，根据电磁场切向连续边界条件，利用增强透射矩阵法求解出射区域的衍射场。