[发明专利]一种PVD超黑涂层无效
申请号: | 201210101801.8 | 申请日: | 2012-04-09 |
公开(公告)号: | CN102628156A | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
发明(设计)人: | 张笑;朱宏辉 | 申请(专利权)人: | 上海仟纳真空镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/22 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 马家骏 |
地址: | 201107 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种PVD超黑涂层,在金属材质的基体上依次有厚度为0.05-0.15um的金属膜层,厚度为0.05-0.15um的磁控溅射复合层,厚度为0.10-0.20um的衔接底层涂层,厚度为0.20-1.00um的金属化合物过渡层,厚度为0.20-0.50um的化合面层。本发明的优点在于所述的PVD超黑涂层的颜色黑度深,L值可以达到26,膜层结合力高,表面光洁度高,膜层致密性高,适合大批量量产。 | ||
搜索关键词: | 一种 pvd 涂层 | ||
【主权项】:
一种PVD超黑涂层,在基体上依次有如下膜层:厚度为0.05‑0.15um的金属膜层;厚度为0.05‑0.15um的磁控溅射复合层;厚度为0.10‑0.20um的衔接底层涂层;厚度为0.20‑1.00um的金属化合物过渡层;厚度为0.20‑0.50um的化合面层。
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