[发明专利]一种PVD超黑涂层无效

专利信息
申请号: 201210101801.8 申请日: 2012-04-09
公开(公告)号: CN102628156A 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 张笑;朱宏辉 申请(专利权)人: 上海仟纳真空镀膜科技有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/22
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 马家骏
地址: 201107 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种PVD超黑涂层,在金属材质的基体上依次有厚度为0.05-0.15um的金属膜层,厚度为0.05-0.15um的磁控溅射复合层,厚度为0.10-0.20um的衔接底层涂层,厚度为0.20-1.00um的金属化合物过渡层,厚度为0.20-0.50um的化合面层。本发明的优点在于所述的PVD超黑涂层的颜色黑度深,L值可以达到26,膜层结合力高,表面光洁度高,膜层致密性高,适合大批量量产。
搜索关键词: 一种 pvd 涂层
【主权项】:
一种PVD超黑涂层,在基体上依次有如下膜层:厚度为0.05‑0.15um的金属膜层;厚度为0.05‑0.15um的磁控溅射复合层;厚度为0.10‑0.20um的衔接底层涂层;厚度为0.20‑1.00um的金属化合物过渡层;厚度为0.20‑0.50um的化合面层。
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