[发明专利]薄膜晶体管有效
申请号: | 201210102931.3 | 申请日: | 2012-04-10 |
公开(公告)号: | CN102664194A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 许民庆;吴钊鹏;黎昔耀;曹岩 | 申请(专利权)人: | 深超光电(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种薄膜晶体管,薄膜晶体管包括基板、栅极、栅绝缘层、主动层、源极、漏极,栅极设置于基板上,栅绝缘层覆盖栅极及基板,主动层设置于该栅绝缘层上,并位于栅极上方,源极和漏极分别设置于主动层上,且源极与源极相对设置;其中,栅绝缘层包括设置于栅极及基板上的第一栅绝缘层、在第一栅绝缘层之上的第二栅绝缘层,且第一栅绝缘层的膜质比第二栅绝缘层的膜质致密,因而,即使在切割或者制造过程中产生了静电,本发明的栅极与源极、漏极之间也不容易发生静电击穿的现象。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 | ||
【主权项】:
一薄膜晶体管,包括:一基板;一栅极,设置于该基板上;一栅绝缘层,覆盖该栅极及该基板;一主动层,设置于该栅绝缘层上,并位于该栅极上方;一源极,设置于该主动层上;一漏极,设置于该主动层上,并与该源极相对设置;其中,该栅绝缘层包括设置于栅极及该基板上的第一栅绝缘层、在该第一栅绝缘层之上的第二栅绝缘层,且该第一栅绝缘层的膜质比该第二栅绝缘层的膜质致密。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深超光电(深圳)有限公司,未经深超光电(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210102931.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类