[发明专利]薄膜晶体管有效

专利信息
申请号: 201210102931.3 申请日: 2012-04-10
公开(公告)号: CN102664194A 公开(公告)日: 2012-09-12
发明(设计)人: 许民庆;吴钊鹏;黎昔耀;曹岩 申请(专利权)人: 深超光电(深圳)有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种薄膜晶体管,薄膜晶体管包括基板、栅极、栅绝缘层、主动层、源极、漏极,栅极设置于基板上,栅绝缘层覆盖栅极及基板,主动层设置于该栅绝缘层上,并位于栅极上方,源极和漏极分别设置于主动层上,且源极与源极相对设置;其中,栅绝缘层包括设置于栅极及基板上的第一栅绝缘层、在第一栅绝缘层之上的第二栅绝缘层,且第一栅绝缘层的膜质比第二栅绝缘层的膜质致密,因而,即使在切割或者制造过程中产生了静电,本发明的栅极与源极、漏极之间也不容易发生静电击穿的现象。
搜索关键词: 薄膜晶体管
【主权项】:
一薄膜晶体管,包括:一基板;一栅极,设置于该基板上;一栅绝缘层,覆盖该栅极及该基板;一主动层,设置于该栅绝缘层上,并位于该栅极上方;一源极,设置于该主动层上;一漏极,设置于该主动层上,并与该源极相对设置;其中,该栅绝缘层包括设置于栅极及该基板上的第一栅绝缘层、在该第一栅绝缘层之上的第二栅绝缘层,且该第一栅绝缘层的膜质比该第二栅绝缘层的膜质致密。
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