[发明专利]提高激光热刻蚀图形分辨率的薄膜结构及其制备方法无效
| 申请号： | 201210104380.4 | 申请日： | 2012-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN102636958A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 李豪;耿永友;吴谊群;魏劲松;王阳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种提高激光热刻蚀图形分辨率的薄膜结构及其制备方法，该薄膜结构包括沉积在玻璃基片上的热传导薄膜层和激光热刻蚀薄膜层。该薄膜结构采用磁控溅射法制备，本发明的薄膜结构具有膜层结构简单，制备工艺参数可控性好，重复性高，基片要求低等优点。可以有效提高激光热刻蚀图形的分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 激光 刻蚀 图形 分辨率 薄膜 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种提高激光热刻蚀图形分辨率的薄膜结构，其特征在于：包括沉积在玻璃基片（3）上的热传导薄膜（2）和激光热刻蚀薄膜（1），所述的激光热刻蚀薄膜（1）由厚度50~200nm的相变型激光热刻蚀薄膜构成，所述的热传导薄膜（2）由厚度为100~500nm的热导率高于148 W/mK的金属或半导体单质构成，所述的基片（3）为厚度0.5~5mm的玻璃片。
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