[发明专利]基材膜及转印箔有效
| 申请号： | 201210104959.0 | 申请日： | 2006-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN102642366A | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 药师堂健一;桥本幸吉;木村将弘 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/36 | 分类号： | B32B27/36;B41M5/44 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基材膜及转印箔，所述基材膜至少含有聚酯层、由结晶性参数ΔTcg为35℃以下的高结晶性聚酯形成的高结晶性聚酯层，所述高结晶性聚酯含有50～100质量％选自聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸丙二醇酯及聚萘二甲酸丁二醇酯中的至少一种，构成所述高结晶性聚酯层的聚酯的结晶化指数Xs与构成所述聚酯层的聚酯的结晶化指数Xc满足Xs-Xc≥4％的关系，所述聚酯层及所述高结晶性聚酯层的面取向系数为0.00～0.05的范围，结晶性参数：ΔTcg(℃)＝Tc-Tg，结晶化指数：X(％)＝(Sm-Sc)/Sm×100。所述转印箔含有上述基材膜。 | ||
| 搜索关键词： | 基材 转印箔 | ||
【主权项】：
一种基材膜，至少含有聚酯层、由结晶性参数ΔTcg为35℃以下的高结晶性聚酯形成的高结晶性聚酯层，所述高结晶性聚酯含有50～100质量％选自聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸丙二醇酯及聚萘二甲酸丁二醇酯中的至少一种，构成所述高结晶性聚酯层的聚酯的结晶化指数Xs与构成所述聚酯层的聚酯的结晶化指数Xc满足Xs‑Xc≥4％的关系，所述聚酯层及所述高结晶性聚酯层的面取向系数为0.00～0.05的范围，结晶性参数：ΔTcg(℃)＝Tc‑Tg此处，Tc为在差示扫描热量测定的升温过程中观察到的冷结晶化温度，Tg为玻璃化温度，结晶化指数：X(％)＝(Sm‑Sc)/Sm×100此处，Sc为使用差示热分析仪得到的结晶化时的发热量，Sm为使用差示热分析仪得到的结晶化时的熔化时的吸热量。
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