[发明专利]用于辐照规划的方法和辐照规划装置有效

专利信息
申请号: 201210105006.6 申请日: 2012-04-11
公开(公告)号: CN102728006A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: A.格默尔;E.里泽尔 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 谢强
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种用于粒子治疗辐照流程的辐照规划的方法,其中沿着多个在射线方向上先后布置的等能量层(13,15,17,18)来施加剂量,包括以下步骤:规定待辐照的目标体积(11),确定最近侧的等能量层(13)关于待辐照的目标体积(11)的第一位置,在使用第一位置的条件下确定在该最近侧的等能量层(13)的远侧的至少另一个等能量层(17,18)关于待辐照的目标体积(11)的第二位置。此外,本发明还涉及一种相应的辐照规划装置。
搜索关键词: 用于 辐照 规划 方法 装置
【主权项】:
一种用于粒子治疗辐照流程的辐照规划的方法,其中沿着多个在射线方向上先后布置的等能量层(13,15,17,18)来施加剂量,包括以下步骤:‑规定待辐照的目标体积(11),‑确定最近侧的等能量层(13)关于所述待辐照的目标体积(11)的第一位置,‑在使用第一位置的条件下确定在该最近侧的等能量层(13)的远侧的至少另一个等能量层(17,18)关于该待辐照的目标体积(11)的第二位置。
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