[发明专利]用于辐照规划的方法和辐照规划装置有效
申请号: | 201210105006.6 | 申请日: | 2012-04-11 |
公开(公告)号: | CN102728006A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | A.格默尔;E.里泽尔 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 谢强 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于粒子治疗辐照流程的辐照规划的方法,其中沿着多个在射线方向上先后布置的等能量层(13,15,17,18)来施加剂量,包括以下步骤:规定待辐照的目标体积(11),确定最近侧的等能量层(13)关于待辐照的目标体积(11)的第一位置,在使用第一位置的条件下确定在该最近侧的等能量层(13)的远侧的至少另一个等能量层(17,18)关于待辐照的目标体积(11)的第二位置。此外,本发明还涉及一种相应的辐照规划装置。 | ||
搜索关键词: | 用于 辐照 规划 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种用于粒子治疗辐照流程的辐照规划的方法,其中沿着多个在射线方向上先后布置的等能量层(13,15,17,18)来施加剂量,包括以下步骤:‑规定待辐照的目标体积(11),‑确定最近侧的等能量层(13)关于所述待辐照的目标体积(11)的第一位置,‑在使用第一位置的条件下确定在该最近侧的等能量层(13)的远侧的至少另一个等能量层(17,18)关于该待辐照的目标体积(11)的第二位置。
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