[发明专利]一种准减压外延生长方法有效
申请号: | 201210105604.3 | 申请日: | 2012-04-11 |
公开(公告)号: | CN102618923A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 王震;田达晰;张世波;梁兴勃;陈华;李慎重 | 申请(专利权)人: | 浙江金瑞泓科技股份有限公司 |
主分类号: | C30B25/16 | 分类号: | C30B25/16 |
代理公司: | 上海泰能知识产权代理事务所 31233 | 代理人: | 宋缨;孙健 |
地址: | 315800 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种准减压外延生长方法,在常压反应系统中,以惰性气体氩气为载气和填充气,以三氯氢硅和氢气为反应气体,来达到减压外延条件下反应系统所处的平衡状态。本发明通过在常压硅外延生长系统中,以惰性气体氩气为载气和填充气体,来达到减压外延条件下反应系统所处的平衡状态,从而达到减压外延的效果。通过此方法,克服了传统减压外延所需要的复杂的减压设备问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 减压 外延 生长 方法 | ||
【主权项】:
一种准减压外延生长方法,其特征在于,在常压反应系统中,以惰性气体氩气为载气和填充气,以三氯氢硅和氢气为反应气体,来达到减压外延条件下反应系统所处的平衡状态。
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