[发明专利]光刻机投影物镜大像差检测方法有效
申请号: | 201210105912.6 | 申请日: | 2012-04-11 |
公开(公告)号: | CN102621819A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 段立峰;王向朝;徐东波 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01M11/02 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种光刻机投影物镜大像差检测方法。该方法采用多级Box-Behnken Design抽样方法,并通过空间像主成分分析实现对光刻投影物镜大波像差的检测。本发明方法在像差幅值大于0.1λ时,能够使像差的检测精度提高30%以上。 | ||
搜索关键词: | 光刻 投影 物镜 大像差 检测 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光刻机投影物镜大像差检测方法,该方法采用的测量系统包括用于产生照明光束的光源(1)、能调整照明光束的束腰、光强分布,部分相干因子和照明方式的照明系统(2)、掩模台(3)、投影物镜(4)、能精确定位的六维扫描工件台(5)、安装在六维扫描工件台上的空间像传感器(6)以及与工件台相连的数据处理计算机,其特征在于本方法包括以下步骤:①设定泽尼克像差抽样组合方式:通过BBD设计得到一个矩阵M,选取0~1区间的n个数值分别乘上矩阵M得到不同幅值的矩阵分别为M1,M2,…,Mn,n为正整数;采用公式(1)组合方式进行组合,则得到本方法所需要的多级BBD矩阵:矩阵M多乘上建模所需的泽尼克系数幅值为0.1λ、0.2λ、或0.3λ,即为所需要的泽尼克像差抽样组合方式,即多级BBD的泽尼克系数组合,其中λ为光刻机激光器的使用波长;②仿真空间像集合的建立:选定光刻机的参数:照明系统的照明方式及其部分相干因子,光刻机激光器的使用波长为λ,投影物镜的数值孔径NA,在掩模台上的安置测试掩模,该测试掩模上的测试标记由一组图形位于0°方向和图形位于90°方向的孤立空组成;空间像采集范围:X方向采集范围为[-L,L],Z方向采集范围为[-F,F];空间像采样点数:X方向采样点数为M,Z方向采集采样点数为N;将上述参数设计和所述的多级BBD的泽尼克系数组合输入计算机,采用PROLITH光刻仿真软件进行仿真,得到仿真空间像集合AIM;③仿真空间像集合的主成分分析和线性回归分析:对仿真空间像集合AIM进行主成分分析,得到仿真空间像的主成分系数V和主成分PC,把得到的主成分系数V和所述的泽尼克系数组合采用常规方法进行线性回归分析,得到主成分系数与泽尼克系数之间的线性回归矩阵,再通过回归矩阵建立仿真空间像与泽尼克系数之间的线性关系模型;④启动光刻机采集空间像:对待检测的光刻机的投影物镜的参数进行设置,参数同步骤②;启动光刻机,光源发出的照明光经照明系统调整后得到相应的照明方式,并照射到掩模台上,利用空间像传感器测量经投影物镜汇聚的空间像,检查测量结果无误后,将实测空间像输入所述计算机储存;⑤泽尼克像差的求解:计算机对所述的实测空间像,同步骤③所述的主成分PC按照常规方法进行主成分拟合,得到实测空间像的主成分系数,该实测空间像的主成分系数同步骤③中得到的线性回归矩阵,按常规方法进行最小二乘拟合,得到所测光刻机投影物镜的泽尼克像差。
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