[发明专利]近单模准渐变折射率大模场增益光纤及制备方法无效
| 申请号： | 201210108838.3 | 申请日： | 2012-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN102621626A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 段开椋;朱永刚;林傲祥;赵卫 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B6/028 | 分类号： | G02B6/028;G02B6/036;C03B37/014;C03B37/025 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 姚敏杰 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种近单模准渐变折射率大模场增益光纤及制备方法，该增益光纤包括纤芯、包裹于纤芯外部的包层以及设置在增益纤芯和包层之间的环形增益区。本发明提供了一种实现高光束质量的激光输出、能够获得较大的模场面积以及有效提高光纤激光器的输出功率水平的近单模准渐变折射率大模场增益光纤及制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 单模 渐变 折射率 大模场 增益 光纤 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种近单模准渐变折射率大模场增益光纤，包括纤芯以及包裹于纤芯外部的包层，其特征在于：所述近单模准渐变折射率大模场增益光纤还包括设置在纤芯和包层之间的环形增益区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院西安光学精密机械研究所，未经中国科学院西安光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210108838.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
