[发明专利]掩模与工件的对齐方法有效
| 申请号： | 201210109339.6 | 申请日： | 2012-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN102736445A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 三盐亮一;井上丰治 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种掩模与工件的对齐方法，即使工件发生伸缩变形，关于通过投影曝光形成在工件上的图案的位置，通过此前的曝光处理形成的图案的位置与在下一工序中进行的丝网印刷等的掩模图案的位置之间也不会产生大的偏移。在进行投影曝光装置的对齐时，调整将上述掩模(M)的图案放大或缩小投影的倍率，使得在掩模(M)的掩模标记(MAM1～4)与工件标记(WAM1～4)的偏移量(dR)的总和上加上掩模(M)的掩模标记(MAM1～4)的位置与在下一工序中使用的丝网掩模的掩模标记(SAM1～4)的基准位置的偏移量(dM)的总和而得到的值最小，并且使掩模(M)或工件(W)移动来进行掩模(M)与工件(W)的对齐。 | ||
| 搜索关键词： | 工件 对齐 方法 | ||
【主权项】：
一种掩模与工件的对齐方法，将第一掩模的图案放大投影或缩小投影到大小与该掩模不同的工件上，对齐上述掩模上所形成的对准标记的投影图像与工件上所形成的对准标记图像来在工件上曝光上述掩模图案，上述掩模与工件的对齐方法的特征在于，预先存储在下一工序中与上述工件重叠使用的预先确定的大小的第二掩模的对准标记的位置，在进行第一掩模与工件的对齐时，调整将上述第一掩模的图案放大投影或缩小投影到上述工件上的倍率，以使第一偏移量与第二偏移量的总和最小的方式对齐上述第一掩模与上述工件，其中，上述第一偏移量为上述第一掩模上所形成的对准标记图像在工件上的投影位置与工件上所形成的对准标记之间的偏移量，上述第二偏移量为第一掩模上所形成的对准标记在工件上的投影位置与上述存储的第二掩模上所形成的对准标记的位置之间的偏移量。
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