[发明专利]一种超疏水表面的制备方法无效
申请号: | 201210110100.0 | 申请日: | 2012-04-16 |
公开(公告)号: | CN102632031A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 胡吉明;伍廉奎 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | B05D5/08 | 分类号: | B05D5/08;C25D9/08 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 张法高 |
地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种实现导电固体表面超疏水化的制备方法。首先,在导电固体表面通过电沉积技术沉积一层粗糙多孔的二氧化硅薄膜,然后采用长链烷基硅氧烷水解液对沉积表面进行修饰,即可得到与水的接触角大于150°的超疏水表面。上述超疏水化表面的制备方法具有广适性,可适用于多种导电固体表面,如金属(及合金)、导电玻璃与导电聚合物,而且适合形状不规则的基体,该制备方法工艺简单,条件温和,制备成本低,并且,制备得到的超疏水表面具有良好的抗酸碱稳定性。 | ||
搜索关键词: | 一种 疏水 表面 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种超疏水表面的制备方法,其特征在于它的步骤如下: 1)将0.5~10 mL正硅酸乙酯或正硅酸甲酯滴加到10~50 mL水与10~50mL乙醇或甲醇组成的混合溶液中,用醋酸调节pH至2.0~5.0,室温水解0.5~48h,得到沉积液;将待沉积的基体置于沉积液中作为阴极,以石墨或铂片为辅助电极,在0.1~10.0mA/cm2电流下电沉积1~ 30min,得到覆盖有纳米多孔性的、粗糙的二氧化硅薄膜的基体;2)将覆盖有纳米多孔性的、粗糙的二氧化硅薄膜的基体浸入长链烷基硅氧烷溶液中2~10min之后取出,20~120℃固化10~60min。
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